【CNMO科技消息】近日，CNMO注意到，有日媒报道称， 日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，旨在显著减少制造尖端半导体所必需的极紫外线（EUV）光刻设备的能耗与制造成本。该创新成果由该校新...
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三星：EUV薄膜透射率已达90% 计划提高至94-96%
【御龙天下新闻】据外媒消息，三星电子的极紫外（EUV）光刻技术取得了重大进展。近日，三星电子DS部门研究员Kang Young-seok详细介绍了该公司EUV技术的现状和未来。据CNMO了解，三星...
